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一种基于冰刻的三维悬空纳米结构加工方法

发明专利有效专利
  • 申请号:
    CN202110117716.X
  • IPC分类号:G03F7/20;B82Y40/00
  • 申请日期:
    2021-01-28
  • 申请人:
    西湖大学
著录项信息
专利名称一种基于冰刻的三维悬空纳米结构加工方法
申请号CN202110117716.X申请日期2021-01-28
法律状态暂无申报国家暂无
公开/公告日2021-06-08公开/公告号CN112925173A
优先权暂无优先权号暂无
主分类号G03F7/20IPC分类号G;0;3;F;7;/;2;0;;;B;8;2;Y;4;0;/;0;0查看分类表>
申请人西湖大学申请人地址
浙江省杭州市西湖区转塘街道石龙山街18号 变更 专利地址、主体等相关变化,请及时变更,防止失效
权利人西湖大学当前权利人西湖大学
发明人吴珊;赵鼎;仇旻
代理机构杭州知闲专利代理事务所(特殊普通合伙)代理人黄燕
摘要
本发明公开了一种基于冰刻的三维悬空纳米结构加工方法,包括根据待加工三维悬空纳米结构的结构特征,确定层数以及每层冰膜厚度、电子束曝光参数;按照顺序进行逐层的加工;针对每一层,按照如下顺序形成该层结构(i)首先在相邻层表面形成冰膜;(ii)在冰膜上进行冰膜的电子束曝光;加工完成后,去除未曝光部分的冰膜,得到所述的三维悬空纳米结构。通过本发明可以完成任意三维悬空纳米结构的制造,例如传统微纳加工技术难以轻松加工的悬空纳米网格、纳米桥状、三维光子晶体等精细结构。本发明加工精度可达百纳米以下,且全程无环境污染且一次性加工成型,具有良好的应用前景。

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