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光刻设备的探测装置与探测方法

发明专利无效专利
  • 申请号:
    CN200710173575.3
  • IPC分类号:G03F7/20;G02B27/00;G02F1/017
  • 申请日期:
    2007-12-28
  • 申请人:
    上海微电子装备有限公司
著录项信息
专利名称光刻设备的探测装置与探测方法
申请号CN200710173575.3申请日期2007-12-28
法律状态撤回申报国家中国
公开/公告日2008-07-09公开/公告号CN101216678
优先权暂无优先权号暂无
主分类号G03F7/20IPC分类号G;0;3;F;7;/;2;0;;;G;0;2;B;2;7;/;0;0;;;G;0;2;F;1;/;0;1;7查看分类表>
申请人上海微电子装备有限公司申请人地址
上海市张江高科技园区张东路1525号 变更 专利地址、主体等相关变化,请及时变更,防止失效
权利人上海微电子装备有限公司当前权利人上海微电子装备有限公司
发明人李焕炀;宋海军;陈勇辉;严天宏;周畅
代理机构上海思微知识产权代理事务所代理人屈蘅;李时云
摘要
本发明公开了光刻设备的探测装置与探测方法,所述探测装置位于光刻设备中的工件高度处,其具有空间图像调制器、光能量传输光纤、光能量探测器和探测信号前置调理处理器,其中空间图像调制器由调制辐射空间图像的探测图案板、光学处理元件和光学过滤薄膜构成;空间图像探测器由量子转换薄膜、微光学处理元件、光学过滤薄膜、耦合量子转换薄膜释放光辐射的辐射探测器构成。本发明还提供了采用上述光刻设备探测装置的探测方法。通过本发明的探测装置及方法可实现大范围辐射波长和脉冲宽度的转换,提高辐射能量转换的线性度和空间图像的探测精度,从而提高光刻设备的性能和效率。

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