二维分辨扫描成像红外调制光致发光光谱测试装置及方法

发明专利有效专利

申请号：
CN201410120925.X
IPC分类号：G01N21/63
申请日期：
2014-03-28
申请人：
中国科学院上海技术物理研究所

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专利名称	二维分辨扫描成像红外调制光致发光光谱测试装置及方法
申请号	CN201410120925.X	申请日期	2014-03-28
法律状态	授权	申报国家	暂无
公开/公告日	2014-07-09	公开/公告号	CN103913439A
优先权	暂无	优先权号	暂无
主分类号	G01N21/63 ? IPC结构图谱： G 物理 G0 仪器 G01 测量；测试 G01N （除免疫测定法以外包括酶或微生物的测量或试验入C12M，C12Q） G01N21/00 利用光学手段，即利用红外光、可见光；或紫外光来测试或分析材料（G01N 3/00至G01N 19/00优先） G01N21/62 所测试的材料在其中被激发，因之引起材料发光或入射光的波长发生变化的系统〔3〕 G01N21/63 光学激发的〔3〕	IPC分类号	G;0;1;N;2;1;/;6;3查看分类表>
申请人	中国科学院上海技术物理研究所	申请人地址	上海市虹口区玉田路500号变更专利地址、主体等相关变化，请及时变更，防止失效
权利人	中国科学院上海技术物理研究所	当前权利人	中国科学院上海技术物理研究所
发明人	邵军;陈熙仁
代理机构	上海新天专利代理有限公司	代理人	郭英

摘要

本发明公开一种二维分辨扫描成像红外调制光致发光光谱测试装置及方法。该装置包括具有步进扫描功能的傅立叶变换红外光谱仪、作为激发光源的泵浦光系统、用于精确定位的五轴调节与复位控制平台及平行校正系统、联接傅立叶变换红外光谱仪中探测器和电路控制板的锁相放大器和泵浦激光源之间光路上的斩波器。本发明还基于上述设备，提出实现波段覆盖4‑20μm宽波段的二维空间分辨与扫描成像红外调制光致发光光光谱测试方法。本发明是一种检测窄半导体材料光学性质和能带结构空间均匀度的光谱学测试装置和方法，具有无损高灵敏优点，非常适合于大面积红外探测器面阵材料的平面空间均匀性检测。

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