釉下彩流变反应釉及其制备方法

发明专利有效专利

申请号：
CN201911257097.3
IPC分类号：C03C8/00;C04B41/89
申请日期：
2019-12-10
申请人：
湖南德兴瓷业有限公司

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著录项信息

专利名称	釉下彩流变反应釉及其制备方法
申请号	CN201911257097.3	申请日期	2019-12-10
法律状态	公开	申报国家	中国
公开/公告日	2020-02-21	公开/公告号	CN110818258A
优先权	暂无	优先权号	暂无
主分类号	C03C8/00 ? IPC结构图谱： C 化学；冶金 C0 化学 C03 玻璃；矿棉或渣棉 C03C 玻璃、釉或搪瓷釉的化学成分；玻璃的表面处理；由玻璃、矿物或矿渣制成的纤维或细丝的表面处理；玻璃与玻璃或与其他材料的接合 C03C8/00 搪瓷；釉（陶瓷用冷釉入C04B 41/86）；含有非熔块添加剂的玻璃料熔封成分〔4〕	IPC分类号	C;0;3;C;8;/;0;0;;;C;0;4;B;4;1;/;8;9查看分类表>
申请人	湖南德兴瓷业有限公司	申请人地址	湖南省株洲市醴陵市孙家湾镇孙家湾村荷塘组变更专利地址、主体等相关变化，请及时变更，防止失效
权利人	湖南德兴瓷业有限公司	当前权利人	湖南德兴瓷业有限公司
发明人	钟首军;谢少元
代理机构	深圳市千纳专利代理有限公司	代理人	黄良宝

摘要

本发明公开了一种釉下彩流变反应釉及其制备方法，它在1350～1380℃的温度环境下烧成，它包括底釉和面釉；其中，所述底釉所使用的釉料的组分及各组分质量份如下：三氧化二铝35‑38份，二氧化硅42‑45份，氧化钾3‑5份，氧化钠2‑4份，氧化钙1‑3份，氧化钛1‑4份，氧化锡0.5‑1份，氧化钴0.2‑0.5份；所述面釉所使用的釉料的组分及各组分质量份如下：三氧化铝17‑19份，二氧化硅58‑60份，氧化钾4‑6份，氧化钠3‑5份，氧化钙1‑3份，氧化钛0.5‑1份，氧化铁0.1‑0.2份，氧化铬0.2‑0.5份。本发明能够合理掌握其反应矿物的比例，合理控制釉温，使产品画面真正反映创作人员的构想，丰富了釉下彩的色彩，使产品艺术效果更浓，从而大大提高了作品价值。

序号	公开(公告)号	公开(公告)日	申请日	专利名称	申请人
该专利没有引用任何外部专利数据！

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