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半导体器件及其制造方法

发明专利有效专利
  • 申请号:
    CN202010870002.1
  • IPC分类号:G01N15/14;G01N33/487;G01N33/543;G01N27/327;G01N33/574;G01N33/58
  • 申请日期:
    2020-08-26
  • 申请人:
    台湾积体电路制造股份有限公司
著录项信息
专利名称半导体器件及其制造方法
申请号CN202010870002.1申请日期2020-08-26
法律状态实质审查申报国家中国
公开/公告日2021-04-20公开/公告号CN112683755A
优先权暂无优先权号暂无
主分类号G01N15/14IPC分类号G;0;1;N;1;5;/;1;4;;;G;0;1;N;3;3;/;4;8;7;;;G;0;1;N;3;3;/;5;4;3;;;G;0;1;N;2;7;/;3;2;7;;;G;0;1;N;3;3;/;5;7;4;;;G;0;1;N;3;3;/;5;8查看分类表>
申请人台湾积体电路制造股份有限公司申请人地址
中国台湾新竹 变更 专利地址、主体等相关变化,请及时变更,防止失效
权利人台湾积体电路制造股份有限公司当前权利人台湾积体电路制造股份有限公司
发明人林璟晖;郑创仁;黄士芬;黄富骏
代理机构北京德恒律治知识产权代理有限公司代理人章社杲;李伟
摘要
公开了具有bioFET传感器、生物指纹传感器和温度传感器的阵列的半导体器件的结构以及制造该半导体器件的方法。用于制造半导体器件的方法包括:在半导体衬底的第一侧上形成栅电极,在半导体衬底内的源极区域和漏极区域之间形成沟道区域,以及在半导体衬底的第二侧上形成压电传感器区域。第二侧基本平行于第一侧并且与第一侧相对。该方法还包括在压电传感器区域的形成期间在第二侧上形成温度感测电极,在沟道区域上形成感测阱,以及将捕获试剂结合在感测阱上。

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