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显影单元清洁装置及采用该装置的清洁方法

发明专利有效专利

申请号：
CN201811128282.8
IPC分类号：G03F7/20;G02F1/13;B08B9/08
申请日期：
2018-09-27
申请人：
武汉华星光电技术有限公司

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法律信息

引证文献

著录项信息

专利名称	显影单元清洁装置及采用该装置的清洁方法
申请号	CN201811128282.8	申请日期	2018-09-27
法律状态	授权	申报国家	中国
公开/公告日	2019-02-12	公开/公告号	CN109324484A
优先权	暂无	优先权号	暂无
主分类号	G03F7/20 ? IPC结构图谱： G 物理 G0 仪器 G03 摄影术；电影术；利用了光波以外其他波的类似技术；电记录术；全息摄影术〔4〕 G03F 图纹面的照相制版工艺，例如，印刷工艺、半导体器件的加工工艺；其所用材料；其所用原版；其所用专用设备（照相排版装置入B41B；为摄影用的感光材料或处理入G03C；电记录、感光层或处理入G03G） G03F7/00 图纹面，例如，印刷表面的照相制版如光刻工艺；图纹面照相制版用的材料，如：含光致抗蚀剂的材料；图纹面照相制版的专用设备（用于特殊工艺的光致抗蚀剂结构见相关的位置，例如，B44C，H01L，例如，H01L 21/00，H05K）〔3，5〕 G03F7/20 曝光及其设备（复制用照相印制设备入G03B 27/00）〔4〕	IPC分类号	G;0;3;F;7;/;2;0;;;G;0;2;F;1;/;1;3;;;B;0;8;B;9;/;0;8查看分类表>
申请人	武汉华星光电技术有限公司	申请人地址	湖北省武汉市东湖开发区高新大道666号生物城C5栋变更专利地址、主体等相关变化，请及时变更，防止失效
权利人	武汉华星光电技术有限公司	当前权利人	武汉华星光电技术有限公司
发明人	叶红
代理机构	深圳翼盛智成知识产权事务所（普通合伙）	代理人	黄威

摘要

本发明披露了一种显影单元清洁装置，应用于一曝光系统。所述显影单元清洁装置有效地解决显影单元内部固化光阻残渣清洁不净的问题，提高了所述显影单元的显影槽的洁净度，从而避免因所述显影单元的显影槽的洁净度所引起的产品不良问题，同时该装置可以二次利用光阻溶剂，提升了化学消耗品的使用率。

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