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有机发光二极管印表头结构

发明专利有效专利

申请号：
CN200710102518.6
IPC分类号：B41J2/45;G03G15/043
申请日期：
2007-05-14
申请人：
奇美电子股份有限公司

基础信息

权利要求

说明书

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法律信息

引证文献

著录项信息

专利名称	有机发光二极管印表头结构
申请号	CN200710102518.6	申请日期	2007-05-14
法律状态	授权	申报国家	中国
公开/公告日	2008-11-19	公开/公告号	CN101306610
优先权	暂无	优先权号	暂无
主分类号	B41J2/45 ? IPC结构图谱： B 作业；运输 B4 印刷 B41 印刷；排版机；打字机；模印机〔4〕 B41J 打字机；选择性印刷机构，即不用印版的印刷机构；排版错误的修正（排版入B41B；特殊表面上的印刷入B41F；作洗衣标记入B41K；消字器，擦具或消字装置入B43L 19/00；通过涂覆来改正排字错误的液体介质入C09D 10/00；测量结果的记录入G01；数据的识别或显示，以数字方式（如用穿孔法的）标记的记录载体入G06K；免费证或票券印刷及发行设备入G07B；电键式开关一般入H01H 13/70，H03K 17/94；与键盘或类似装置相关的编码一般入H03M 11/00；传递数字信息的接收或发送机入H04L；文件或类似物的传输或重现，例如传真传输入H04N 1/00；专门适用于某些设备，如现款登记器、称量机械及能对其作业作出记录的设备的印刷机构见有关小类） B41J2/00 以打印或标记工艺为特征而设计的打字机或选择性印刷机构（铅字或印模的安装、排列或布置入B41J 1/00；标记方法入B41M 5/00；头的结构或制造，如感应，通过记录载体的生磁或退磁而进行记录入G11B 5/127；电容信息复制头入G11B 9/07）〔5〕 B41J2/435 特征在于有选择地向印刷材料或转印材料提供照射（光学元件，系统或设备入G02B；光的调节或偏转入G02F，电子照相入G03G）〔5〕 B41J2/447 用照射源阵列（B41J 2/475优先）〔6〕 B41J2/45 用发光二极管阵列〔5〕	IPC分类号	B;4;1;J;2;/;4;5;;;G;0;3;G;1;5;/;0;4;3查看分类表>
申请人	奇美电子股份有限公司	申请人地址	中国台湾新竹科学工业园区苗栗县竹南镇科学路160号变更专利地址、主体等相关变化，请及时变更，防止失效
权利人	奇美电子股份有限公司	当前权利人	奇美电子股份有限公司
发明人	吴炳升
代理机构	永新专利商标代理有限公司	代理人	王英

摘要

本发明提供一种有机发光二极管印表头，包括：基板和有机发光二极管矩阵阵列。该有机发光二极管矩阵阵列包括多个有机发光二极管阵列，其中该多个有机发光二极管阵列包括多个有机发光二极管，该多个有机发光二极管以第一方向配置于该基板上，相邻的两个有机发光二极管阵列以第二方向配置于该基板上，通过此有机发光二极管矩阵阵列的设计来增加该有机发光二极管印表头的分辨率。

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