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阳光控制低辐射涂层溶液及其制备方法和用途

发明专利无效专利
  • 申请号:
    CN200410009078.6
  • IPC分类号:C09D163/00;C09D133/00;C09D5/00
  • 申请日期:
    2004-05-11
  • 申请人:
    中科纳米技术工程中心有限公司
著录项信息
专利名称阳光控制低辐射涂层溶液及其制备方法和用途
申请号CN200410009078.6申请日期2004-05-11
法律状态权利终止申报国家中国
公开/公告日2005-11-16公开/公告号CN1696221
优先权暂无优先权号暂无
主分类号C09D163/00IPC分类号C;0;9;D;1;6;3;/;0;0;;;C;0;9;D;1;3;3;/;0;0;;;C;0;9;D;5;/;0;0查看分类表>
申请人中科纳米技术工程中心有限公司申请人地址
吉林省长春市经济技术开发区世纪大街9号 变更 专利地址、主体等相关变化,请及时变更,防止失效
权利人长春迪高实业有限公司当前权利人长春迪高实业有限公司
发明人曹新宇;江雷
代理机构上海智信专利代理有限公司代理人李柏
摘要
本发明涉及一种水性溶液体系的组成及用此溶液制备阳光控制低辐射涂层的方法,构成此涂层的溶液体系至少包含一种掺杂金属氧化物的纳米粒子和高分子成膜成份。该溶液体系的分散介质为水、水和醇类、水和醇类及酯类的混合溶液,分散介质不含苯、甲苯及毒害大的挥发成分;该涂层的制备为常压下成膜,处理温度不超过150摄氏度;如有必要,此涂层可复合其它薄膜以得到更佳阳光控制和低辐射的效果。溶液可直接涂敷于玻璃表面和有机材料表面,不受基材的形状和尺寸限制,具有良好的耐磨性。

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