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高电子迁移率晶体管及其制造方法

发明专利有效专利
  • 申请号:
    CN201980005926.0
  • IPC分类号:H01L29/778;H01L29/47;H01L21/335
  • 申请日期:
    2019-12-27
  • 申请人:
    英诺赛科(珠海)科技有限公司
著录项信息
专利名称高电子迁移率晶体管及其制造方法
申请号CN201980005926.0申请日期2019-12-27
法律状态实质审查申报国家中国
公开/公告日2020-08-04公开/公告号CN111492490A
优先权暂无优先权号暂无
主分类号H01L29/778
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IPC结构图谱:
IPC分类号H;0;1;L;2;9;/;7;7;8;;;H;0;1;L;2;9;/;4;7;;;H;0;1;L;2;1;/;3;3;5查看分类表>
申请人英诺赛科(珠海)科技有限公司申请人地址
广东省珠海市高新区金鼎工业园金园二路39号 变更 专利地址、主体等相关变化,请及时变更,防止失效
权利人英诺赛科(珠海)科技有限公司当前权利人英诺赛科(珠海)科技有限公司
发明人张铭宏;黄敬源;邱汉钦;廖航
代理机构北京律盟知识产权代理有限责任公司代理人暂无
摘要
本申请涉及了一种高电子迁移率晶体管及其制造方法。高电子迁移率晶体管可包含衬底;设置在所述衬底上的沟道层;设置在所述沟道层上的势垒层;设置在所述势垒层上的半导体栅极;设置在所述半导体栅极上的金属栅极,所述金属栅极具有梯形的剖面形状;以及钝化层,其直接接触所述金属栅极。所述金属栅极的第一表面与所述半导体栅极的第一表面接触,且所述金属栅极的第一表面的边缘位于所述半导体栅极的第一表面的边缘内部。

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