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用于制造三维物体的设备及其应用

发明专利有效专利
  • 申请号:
    CN201680064437.9
  • IPC分类号:G02B13/22;B41J2/45
  • 申请日期:
    2016-10-28
  • 申请人:
    EOS有限公司电镀光纤系统
著录项信息
专利名称用于制造三维物体的设备及其应用
申请号CN201680064437.9申请日期2016-10-28
法律状态授权申报国家中国
公开/公告日2018-07-31公开/公告号CN108351498A
优先权暂无优先权号暂无
主分类号G02B13/22IPC分类号G;0;2;B;1;3;/;2;2;;;B;4;1;J;2;/;4;5查看分类表>
申请人EOS有限公司电镀光纤系统申请人地址
德国克赖灵 变更 专利地址、主体等相关变化,请及时变更,防止失效
权利人EOS有限公司电镀光纤系统当前权利人EOS有限公司电镀光纤系统
发明人H·佩雷特;S·格罗嫩伯恩
代理机构中国贸促会专利商标事务所有限公司代理人俞海舟
摘要
本发明涉及一种曝光光学器件(20),作为用于设备(1)的装备和/或改型光学器件,该设备用于借助于电磁辐射(22)的作用在与待制造的物体的在相应的层中的横截面相对应的位置上通过选择性逐层固化建造材料(15)制造三维物体(2)。所述设备包括能够发射电磁辐射(22)的辐射源(21),所述电磁辐射适合于在入射到所述建造材料(15)的施加在所述设备(1)的工作面(7)中的层的与待制造的物体(2)的横截面相对应的位置上时引起建造材料(15)在这些位置上的固化。曝光光学器件(20)至少包括一个具有第一焦距f1的物方的第一透镜系统(23)和一个具有第二焦距f2的像方的第二透镜系统(24),这些透镜系统能够布置在由辐射源(21)发射的辐射(22)的光束路径中。第一透镜系统(23)的焦平面和第二透镜系统(24)的焦平面在这两个透镜系统之间的一个平面中重合。第一透镜系统(23)的焦距f1等于或大于第二透镜系统(24)的焦距f2。曝光光学器件(20)被设计成并且能布置成使得电磁辐射(22)基本垂直入射到工作面(7)上。

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