显示装置、阵列基板及其制作方法

发明专利有效专利

申请号：
CN201310667582.4
IPC分类号：G02F1/1343;H01L27/12;H01L21/77
申请日期：
2013-12-10
申请人：
京东方科技集团股份有限公司;成都京东方光电科技有限公司

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著录项信息

专利名称	显示装置、阵列基板及其制作方法
申请号	CN201310667582.4	申请日期	2013-12-10
法律状态	授权	申报国家	中国
公开/公告日	2014-03-19	公开/公告号	CN103645589A
优先权	暂无	优先权号	暂无
主分类号	G02F1/1343 ? IPC结构图谱： G 物理 G0 仪器 G02 光学 G02F 用于控制光的强度、颜色、相位、偏振或方向的器件或装置，例如转换、选通、调制或解调，上述器件或装置的光学操作是通过改变器件或装置的介质的光学性质来修改的；用于上述操作的技术或工艺；变频；非线性光学；光学逻辑元件；光学模拟/数字转换器〔2，4〕 G02F1/00 控制来自独立光源的光的强度、颜色、相位、偏振或方向的器件或装置，例如，转换、选通或调制；非线性光学〔2，4〕 G02F1/01 对强度、相位、偏振或颜色的控制（G02F 1/29、G02F 1/35优先）〔2，7〕 G02F1/13 基于液晶的，例如单位液晶显示单元〔2〕 G02F1/133 构造上的设备；液晶单元的工作；电路装置（用于控制矩阵中液晶元件并且在结构上不与这些元件相连的装置或电路入G09G 3/36）〔3，7〕 G02F1/1333 构造上的设备（G02F 1/135，G02F 1/136优先）〔5〕 G02F1/1343 电极〔5〕	IPC分类号	G;0;2;F;1;/;1;3;4;3;;;H;0;1;L;2;7;/;1;2;;;H;0;1;L;2;1;/;7;7查看分类表>
申请人	京东方科技集团股份有限公司;成都京东方光电科技有限公司	申请人地址	北京市朝阳区酒仙桥路10号变更专利地址、主体等相关变化，请及时变更，防止失效
权利人	京东方科技集团股份有限公司,成都京东方光电科技有限公司	当前权利人	京东方科技集团股份有限公司,成都京东方光电科技有限公司
发明人	莫再隆;石天雷;朴承翊
代理机构	北京路浩知识产权代理有限公司	代理人	李迪

摘要

本发明提供一种显示装置、阵列基板及其制作方法，该阵列基板包括设置于其上的第一透明电极层和第二透明电极层，该第一透明电极层包括多个间隔设置的条状电极，该第二透明电极层位于两相邻该条状电极之间形成的间隙下方均设置有第一凸起，且各该条状电极与各该第一凸起对应的边缘向上翘起，以使各该条状电极边缘与该第二透明电极层形成的边缘电场向该条状电极边缘侧偏移。本发明可以有效的限定亚像素单元的边缘电场作用范围，即使在彩膜基板和阵列基板对盒发生轻微偏移的情况下，也不会对相邻的亚像素造成影响，因此可以有效降低两个相邻的亚像素混色的风险。

序号	公开(公告)号	公开(公告)日	申请日	专利名称	申请人
该专利没有引用任何外部专利数据！

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