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检验方法和器件制造方法

发明专利无效专利
  • 申请号:
    CN200310120342.9
  • IPC分类号:G03F7/20
  • 申请日期:
    2003-11-01
  • 申请人:
    ASML荷兰有限公司
著录项信息
专利名称检验方法和器件制造方法
申请号CN200310120342.9申请日期2003-11-01
法律状态权利终止申报国家中国
公开/公告日2004-05-26公开/公告号CN1499292
优先权暂无优先权号暂无
主分类号G03F7/20IPC分类号G03F7/20查看分类表>
申请人ASML荷兰有限公司申请人地址
荷兰维尔*** 变更 专利地址、主体等相关变化,请及时变更,防止失效
权利人ASML荷兰有限公司当前权利人ASML荷兰有限公司
发明人A·J·登博夫;H·范德拉安;A·J·J·范迪塞当克;M·杜萨;A·G·M·基尔斯
代理机构中科专利商标代理有限责任公司代理人王波波
摘要
通过印制测试图案来检测光刻装置中的像差,该测试图案具有至少一个对称度,该测试图案对于该装置中的特定像差是敏感的,并且利用散射计来获得关于像差的信息。测试结构可以包括双条光栅,在这种情况下,可以重构内部和外部占空比来获取表示慧形像差的信息。另外,也可以使用点的六角形阵列,在这种情况下,散射测量数据可用于重构表示3-波像差的点的直径。

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