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基于激光片光成像的粒子场全场测量方法及其装置

发明专利无效专利
  • 申请号:
    CN02113133.3
  • IPC分类号:G01D21/02;G01N15/02
  • 申请日期:
    2002-06-05
  • 申请人:
    中国科学技术大学
著录项信息
专利名称基于激光片光成像的粒子场全场测量方法及其装置
申请号CN02113133.3申请日期2002-06-05
法律状态权利终止申报国家中国
公开/公告日2003-12-31公开/公告号CN1464288
优先权暂无优先权号暂无
主分类号G01D21/02IPC分类号G;0;1;D;2;1;/;0;2;;;G;0;1;N;1;5;/;0;2查看分类表>
申请人中国科学技术大学申请人地址
安徽省合肥市金寨路96号 变更 专利地址、主体等相关变化,请及时变更,防止失效
权利人中国科学技术大学当前权利人中国科学技术大学
发明人王喜世;廖光煊;秦俊;范维澄;伍小平
代理机构暂无代理人暂无
摘要
本发明基于激光片光成像的粒子场全场测量方法及其测量装置,特征是采取互相正交的激光片光照明测试流场中的粒子,采用两个CCD摄像头分别获取垂直于流场方向截面内粒子的像以及平行于流场方向平面内粒子的运动轨迹图象,通过识别粒子的像和统计分析其所占象素的多少确定其等效直径的大小,分析识别粒子的运动轨迹图确定粒子运动速度的大小及其方向,给出成像平面内粒子的尺度谱和速度场分布。本发明仅以流场中的粒子为成像对象,无需人为施加示踪粒子,避免了因示踪粒子的施加对流场造成的干扰,可广泛应用于两相或多相流研究中对流场的多参数、全场动态测量,在能源与环境、国防、机械、化工、冶金、医药和食品等领域中具有广阔的应用前景。

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