专利名称 | 用于辐射成像的探测器模块及具有其的辐射成像检查系统 | ||
申请号 | CN200810223268.6 | 申请日期 | 2008-09-28 |
法律状态 | 授权 | 申报国家 | 中国 |
公开/公告日 | 2010-03-31 | 公开/公告号 | CN101685072 |
优先权 | 暂无 | 优先权号 | 暂无 |
主分类号 | G01N23/04 | IPC分类号 | G;0;1;N;2;3;/;0;4;;;A;6;1;B;6;/;0;3查看分类表> |
申请人 | 同方威视技术股份有限公司;清华大学 | 申请人地址 | 北京市海淀区双清路同方大厦A座2层
变更
专利地址、主体等相关变化,请及时变更,防止失效 |
权利人 | 同方威视技术股份有限公司,清华大学 | 当前权利人 | 同方威视技术股份有限公司,清华大学 |
发明人 | 江年铭;李元景;张清军;王均效;赵书清;张文剑 | ||
代理机构 | 中科专利商标代理有限责任公司 | 代理人 | 王新华 |
序号 | 公开(公告)号 | 公开(公告)日 | 申请日 | 专利名称 | 申请人 |
---|---|---|---|---|---|
该专利没有引用任何外部专利数据! |
序号 | 公开(公告)号 | 公开(公告)日 | 申请日 | 专利名称 | 申请人 |
---|---|---|---|---|---|
该专利没有被任何外部专利所引用! |
我浏览过的专利
专利服务由北京酷爱智慧知识产权代理公司提供
专属管家一对一服务
专利专业答疑和建议
已经帮助解决过
0个专利相关的问题
请问有什么能帮到你的吗?残忍拒绝
商标进度查询
风险动态监测预警
免责声明:本网站部分内容由用户自行上传,如权利人发现存在误传其作品情形,请及时与本站联系删除:chatm@zbj.com