掩模坯板和掩模

发明专利有效专利

申请号：
CN200710153319.8
IPC分类号：G03F1/00
申请日期：
2007-09-14
申请人：
豪雅株式会社;日产化学工业株式会社

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法律信息

引证文献

著录项信息

专利名称	掩模坯板和掩模
申请号	CN200710153319.8	申请日期	2007-09-14
法律状态	授权	申报国家	中国
公开/公告日	2008-03-19	公开/公告号	CN101144972
优先权	暂无	优先权号	暂无
主分类号	G03F1/00 ? IPC结构图谱： G 物理 G0 仪器 G03 摄影术；电影术；利用了光波以外其他波的类似技术；电记录术；全息摄影术〔4〕 G03F 图纹面的照相制版工艺，例如，印刷工艺、半导体器件的加工工艺；其所用材料；其所用原版；其所用专用设备（照相排版装置入B41B；为摄影用的感光材料或处理入G03C；电记录、感光层或处理入G03G） G03F1/00 用于图纹面的照相制版的原版，例如掩膜，光掩膜；其所用空白掩膜或其所用薄膜；其专门适用于此的容器；其制备〔3，2012.01〕	IPC分类号	G03F1/00查看分类表>
申请人	豪雅株式会社;日产化学工业株式会社	申请人地址	日本*** 变更专利地址、主体等相关变化，请及时变更，防止失效
权利人	豪雅株式会社,日产化学工业株式会社	当前权利人	豪雅株式会社,日产化学工业株式会社
发明人	桥本雅广;榎本智之;坂口崇洋;坂本力丸;永井雅规
代理机构	北京市中咨律师事务所	代理人	段承恩;田欣

摘要

本发明提供可控制转印用掩模的转印图案线宽的设计尺寸与在基板上形成的转印图案线宽尺寸之差，且可将线性控制在10nm以下的掩模图案和掩模。本发明提供了一种掩模坯板，其具有在基板上成膜的用于形成掩模图案的薄膜、和在该薄膜的上方成膜的化学放大型的抗蚀剂膜，其特征在于，在上述薄膜和抗蚀剂膜之间具有保护膜，所述保护膜可阻止妨害上述抗蚀剂膜的化学放大机能的物质从抗蚀剂膜的底部向抗蚀剂膜内移动。

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发明授权

掩模坯板和掩模

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