一种真空热处理炉上的正压压力控制系统

实用新型专利有效专利

申请号：
CN201820095768.5
IPC分类号：F27B5/05;F27B5/06;F27B5/18
申请日期：
2018-01-21
申请人：
青岛精诚华旗微电子设备有限公司

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著录项信息

专利名称	一种真空热处理炉上的正压压力控制系统
申请号	CN201820095768.5	申请日期	2018-01-21
法律状态	授权	申报国家	中国
公开/公告日		公开/公告号
优先权	暂无	优先权号	暂无
主分类号	F27B5/05 ? IPC结构图谱： F 机械工程；照明；加热；武器；爆破 F2 照明；加热 F27 炉；窑；烘烤炉；蒸馏炉〔4〕 F27B 一般馏炉、窑、烘烤炉或蒸馏炉；开式烧结设备或类似设备（燃烧设备入F23；电加热入H05B） F27B5/00 马弗炉；干馏炉；其他炉料完全隔绝的炉（F27B 9/00优先） F27B5/04 适用于在真空中或特殊气氛中处理炉料的 F27B5/05 在真空中〔5〕	IPC分类号	F;2;7;B;5;/;0;5;;;F;2;7;B;5;/;0;6;;;F;2;7;B;5;/;1;8查看分类表>
申请人	青岛精诚华旗微电子设备有限公司	申请人地址	山东省青岛市城阳区流亭街道双元路西变更专利地址、主体等相关变化，请及时变更，防止失效
权利人	青岛精诚华旗微电子设备有限公司	当前权利人	青岛精诚华旗微电子设备有限公司
发明人	刘洋
代理机构	暂无	代理人	暂无

摘要

本实用新型公开了一种真空热处理炉上的正压压力控制系统，与真空热处理炉相对应，所述真空热处理炉上包括反应腔，正压压力控制系统，工控系统，其特征在于：所述正压压力控制系统包括供气系统和出气系统；所述反应腔外部设置有压力传感器；所述工控系统与正压压力控制系统，压力传感器连接进行反应腔内压力的控制。本实用新型设计合理，设计合理，使得反应腔和进气系统、出气系统内的气体压力变得稳定可控；同时，增加不同温度段环境下压力设定范围值，避免充气阀和泄压阀频繁开启，保证了在不同温度环境下反应腔内需要的气体压力更加恒定，提高了制品热处理环境的稳定性，物料产成品合格率更高，同时降低了生产成本，实用性强，适于推广。

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