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一种用于制备均孔膜的嵌段共聚物及其制备孔径亚10nm均孔膜的方法

发明专利有效专利
  • 申请号:
    CN201811071682.X
  • IPC分类号:C08F293/00;B01D67/00
  • 申请日期:
    2018-09-13
  • 申请人:
    浙江工业大学
著录项信息
专利名称一种用于制备均孔膜的嵌段共聚物及其制备孔径亚10nm均孔膜的方法
申请号CN201811071682.X申请日期2018-09-13
法律状态实质审查申报国家暂无
公开/公告日2019-03-01公开/公告号CN109400829A
优先权暂无优先权号暂无
主分类号C08F293/00IPC分类号C;0;8;F;2;9;3;/;0;0;;;B;0;1;D;6;7;/;0;0查看分类表>
申请人浙江工业大学申请人地址
浙江省杭州市下城区潮王路18号 变更 专利地址、主体等相关变化,请及时变更,防止失效
权利人浙江工业大学当前权利人浙江工业大学
发明人易砖;朱国栋;殷煜镕
代理机构杭州求是专利事务所有限公司代理人黄欢娣;邱启旺
摘要
本发明公开一种基于超分子作用力制备孔径亚10nm均孔膜的方法。所述方法利用超分子作用力克服低分子量嵌段聚合物难以微相分离的难题,促进嵌段聚合物的自组装,从而形成孔径小于10nm均孔膜的方法。所述方法的过程如下:将嵌段聚合物、添加剂、溶剂混合形成均相溶液,用刮刀将铸膜液在基底上铺展开,挥发一定时间后浸入凝固浴中相转化成膜。

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