含纳米混合抛光粉的磁流变抛光液及其制备方法

发明专利有效专利

申请号：
CN202011554452.6
IPC分类号：C09G1/02
申请日期：
2020-12-24
申请人：
中国人民解放军国防科技大学

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著录项信息

专利名称	含纳米混合抛光粉的磁流变抛光液及其制备方法
申请号	CN202011554452.6	申请日期	2020-12-24
法律状态	实质审查	申报国家	中国
公开/公告日	2021-04-13	公开/公告号	CN112646496A
优先权	暂无	优先权号	暂无
主分类号	C09G1/02 ? IPC结构图谱： C 化学；冶金 C0 化学 C09 染料；涂料；抛光剂；天然树脂；黏合剂；其他类目不包含的组合物；其他类目不包含的材料的应用 C09G 虫胶清漆除外的抛光组合物；滑雪屐蜡 C09G1/00 抛光组合物（虫胶清漆入C09F 11/00；洗涤剂入C11D） C09G1/02 含有磨料或研磨剂	IPC分类号	C;0;9;G;1;/;0;2查看分类表>
申请人	中国人民解放军国防科技大学	申请人地址	湖南省长沙市开福区砚瓦池正街47号变更专利地址、主体等相关变化，请及时变更，防止失效
权利人	中国人民解放军国防科技大学	当前权利人	中国人民解放军国防科技大学
发明人	戴一帆;林之凡;彭小强;胡皓;关朝亮;何康宁
代理机构	湖南兆弘专利事务所（普通合伙）	代理人	黄丽

摘要

本发明公开了一种含纳米混合抛光粉的磁流变抛光液及其制备方法。该磁流变抛光液包括40％～70％的基载液、20％～50％的羰基铁粉、1％～15％的纳米混合抛光粉、1％～5％的表面活性剂和0.1％～3％的pH调节剂，纳米混合抛光粉由平均粒径为10nm～100nm的纳米二氧化硅粉和平均粒径为50nm～800nm的纳米金刚石粉组成，二者的体积比为5～9∶4～1，制备方法包括将羰基铁粉、纳米混合抛光粉、基载液混合，然后加入表面活性剂和pH调节剂即得。本发明的磁流变抛光液可实现磁流变抛光高去除效率和高表面质量的兼容，流变性能好，稳定性强，能够实现光学元件的磁流变高效超光滑加工。

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