加载中...
首页专利查询专利详情

*来源于国家知识产权局数据,仅供参考,实际以国家知识产权局展示为准

一种晶体硅片的磷扩散方法

发明专利有效专利
  • 申请号:
    CN201310076915.6
  • IPC分类号:H01L31/18;C30B31/08
  • 申请日期:
    2013-03-11
  • 申请人:
    苏州阿特斯阳光电力科技有限公司
著录项信息
专利名称一种晶体硅片的磷扩散方法
申请号CN201310076915.6申请日期2013-03-11
法律状态授权申报国家中国
公开/公告日2013-07-10公开/公告号CN103199152A
优先权暂无优先权号暂无
主分类号H01L31/18IPC分类号H;0;1;L;3;1;/;1;8;;;C;3;0;B;3;1;/;0;8查看分类表>
申请人苏州阿特斯阳光电力科技有限公司申请人地址
江苏省苏州市苏州高新区鹿山路199号 变更 专利地址、主体等相关变化,请及时变更,防止失效
权利人苏州阿特斯阳光电力科技有限公司当前权利人苏州阿特斯阳光电力科技有限公司
发明人万松博;王栩生;章灵军
代理机构苏州创元专利商标事务所有限公司代理人陶海锋;陆金星
摘要
本发明公开了一种晶体硅片的磷扩散方法,包括如下步骤:一种晶体硅片的磷扩散方法,包括如下步骤:(1)恒定源扩散:将待处理的晶体硅片放于扩散炉中,以1~10℃/min的升温速率升温至805~850℃,通入携磷源氮气、干氧和大氮进行恒定源扩散;(2)氧化推进:保持上述温度,停止通入携磷源氮气,同时通入干氧和大氮,进行推进;(3)降温氧化;(4)扩散结束,出舟。实验证明,相对于现有的扩散工艺,采用本发明的方法制备的电池片的开路电压可以提高7mV,短路电流提高70mA,同时填充因子无明显变化,最终的光电转换效率提高了0.3%左右,取得了意想不到的技术效果。

我浏览过的专利

专利服务由北京酷爱智慧知识产权代理公司提供