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激光照射方法和激光照射系统

发明专利有效专利
  • 申请号:
    CN201780096139.2
  • IPC分类号:H01L21/22
  • 申请日期:
    2017-12-21
  • 申请人:
    极光先进雷射株式会社;国立大学法人九州大学
著录项信息
专利名称激光照射方法和激光照射系统
申请号CN201780096139.2申请日期2017-12-21
法律状态公开申报国家中国
公开/公告日2020-06-05公开/公告号CN111247626A
优先权暂无优先权号暂无
主分类号H01L21/22IPC分类号H;0;1;L;2;1;/;2;2查看分类表>
申请人极光先进雷射株式会社;国立大学法人九州大学申请人地址
日本栃木县 变更 专利地址、主体等相关变化,请及时变更,防止失效
权利人极光先进雷射株式会社,国立大学法人九州大学当前权利人极光先进雷射株式会社,国立大学法人九州大学
发明人池上浩;若林理;老泉博昭;诹访辉
代理机构北京三友知识产权代理有限公司代理人金玲;黄纶伟
摘要
一种激光照射方法,对在半导体基板上形成杂质源膜而构成的被照射物照射脉冲激光,其中,该激光照射方法包含以下步骤:A.读入照射到被照射物上所设定的矩形的照射区域的脉冲激光的每一个脉冲的注量和照射到照射区域的照射脉冲数,其中,在对被照射物照射照射脉冲数的脉冲激光的情况下,注量为杂质源膜产生烧蚀的阈值以上并且小于半导体基板的表面产生损伤的阈值;B.在设照射区域沿扫描方向的宽度为Bx、照射脉冲数为Nd、脉冲激光的反复频率为f的情况下,根据用Vdx=f·Bx/Nd表示的关系式计算扫描速度Vdx;以及C.以反复频率f对照射区域照射脉冲激光,并使被照射物相对于照射区域相对地以扫描速度Vdx移动。

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