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用于半导体材料的激光打孔切割系统

发明专利有效专利
  • 申请号:
    CN201510446485.1
  • IPC分类号:B23K26/38;B23K26/382;B23K26/08;B23K26/70;B23K26/142;B23K26/402;B23K101/40
  • 申请日期:
    2015-07-27
  • 申请人:
    上海微世半导体有限公司
著录项信息
专利名称用于半导体材料的激光打孔切割系统
申请号CN201510446485.1申请日期2015-07-27
法律状态授权申报国家中国
公开/公告日2015-11-18公开/公告号CN105057893A
优先权暂无优先权号暂无
主分类号B23K26/38IPC分类号B;2;3;K;2;6;/;3;8;;;B;2;3;K;2;6;/;3;8;2;;;B;2;3;K;2;6;/;0;8;;;B;2;3;K;2;6;/;7;0;;;B;2;3;K;2;6;/;1;4;2;;;B;2;3;K;2;6;/;4;0;2;;;B;2;3;K;1;0;1;/;4;0查看分类表>
申请人上海微世半导体有限公司申请人地址
上海市奉贤区南桥镇沿江路752号 变更 专利地址、主体等相关变化,请及时变更,防止失效
权利人上海微世半导体有限公司当前权利人上海微世半导体有限公司
发明人李轶;徐伟涛;丁波;陈瀚;侯金松;杭海燕;裴紫伟;张杰;蒋松
代理机构上海胜康律师事务所代理人张坚
摘要
本发明公开了一种用于半导体材料的激光打孔切割系统,包括激光光路子系统、运动平台子系统、视觉定位检测子系统和工控机;所述激光光路子系统由反射镜、设于反射镜旁的激光器以及设于反射镜下方的聚焦镜构成;所述视觉定位检测子系统由显示器、在同一竖直线上位于反射镜上方的成像镜筒和相机、位于所述反射镜下方的所述聚焦镜以及设于聚焦镜旁的照明灯构成,所述相机通过所述成像镜筒与所述反射镜相连;所述反射镜既能反射激光也能进行成像光源透光。本发明实现了运动过程中对半导体材料进行激光同步打孔、机器视觉定位二次重打、打孔形位误差检测、激光切割等多种功能于一体,可实现半导体材料在运动过程中打通孔和盲孔、激光切割、视觉检测多种功能。

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