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含有带甲硅烷基乙炔基基团的并苯-噻吩共聚物的电子器件

发明专利无效专利
  • 申请号:
    CN200780014279.7
  • IPC分类号:H01L29/786;C08G61/12
  • 申请日期:
    2007-04-13
  • 申请人:
    3M创新有限公司
著录项信息
专利名称含有带甲硅烷基乙炔基基团的并苯-噻吩共聚物的电子器件
申请号CN200780014279.7申请日期2007-04-13
法律状态权利终止申报国家中国
公开/公告日2009-05-06公开/公告号CN101427381
优先权暂无优先权号暂无
主分类号H01L29/786
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IPC结构图谱:
IPC分类号H;0;1;L;2;9;/;7;8;6;;;C;0;8;G;6;1;/;1;2查看分类表>
申请人3M创新有限公司申请人地址
美国明尼苏达州 变更 专利地址、主体等相关变化,请及时变更,防止失效
权利人3M创新有限公司当前权利人3M创新有限公司
发明人朱培旺;丹尼斯·E·沃格尔;李子成;克里斯托弗·P·格拉赫
代理机构中原信达知识产权代理有限责任公司代理人郇春艳;樊卫民
摘要
描述了包含并苯-噻吩共聚物的电子器件和制造这种电子器件的方法。更具体地讲,所述并苯-噻吩共聚物具有连接的甲硅烷基乙炔基基团。所述共聚物可用于(例如)半导体层中或布置在第一电极和第二电极之间的层中。

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