一种清除聚二甲基硅烷裂解反应残留物的方法

发明专利有效专利

申请号：
CN201610018273.8
IPC分类号：C08G77/60
申请日期：
2016-01-12
申请人：
中国科学院宁波材料技术与工程研究所

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专利名称	一种清除聚二甲基硅烷裂解反应残留物的方法
申请号	CN201610018273.8	申请日期	2016-01-12
法律状态	授权	申报国家	中国
公开/公告日	2016-05-25	公开/公告号	CN105601936A
优先权	暂无	优先权号	暂无
主分类号	C08G77/60 ? IPC结构图谱： C 化学；冶金 C0 化学 C08 有机高分子化合物；其制备或化学加工；以其为基料的组合物 C08G 用碳-碳不饱和键以外的反应得到的高分子化合物（发酵或使用酶的方法合成目标化合物或组合物或从外消旋混合物中分离旋光异构体入C12P）〔2〕 C08G77/00 在高分子主链中形成含硅键合，有或没有硫、氮、氧，或碳键合反应得到的高分子化合物〔2〕 C08G77/60 其中所有的硅原子是与氧以外的原子键合〔2〕	IPC分类号	C;0;8;G;7;7;/;6;0查看分类表>
申请人	中国科学院宁波材料技术与工程研究所	申请人地址	浙江省宁波市镇海区庄市大道519号变更专利地址、主体等相关变化，请及时变更，防止失效
权利人	中国科学院宁波材料技术与工程研究所	当前权利人	中国科学院宁波材料技术与工程研究所
发明人	莫高明;苗玉龙;钟希强;何流;陈海俊;裴学良;杨建行
代理机构	北京鸿元知识产权代理有限公司	代理人	单英

摘要

本发明提供了一种清除聚二甲基硅烷(PDMS)裂解反应残留物的方法，该方法首先用可溶聚碳硅烷(PCS)的有机溶剂对反应容器进行清洗，再用氧化性酸对反应容器进行清洗，最后用去离子水或蒸馏水清洗反应容器后烘干。通过上述方法可快速、彻底清除聚二甲基硅烷(PDMS)裂解反应后的残留物，在保养反应设备的同时，减少了残留物对后续反应进程的影响，提高了反应产物性能的稳定性和可靠性。

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