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一种三维存储器及其制作方法

发明专利有效专利
  • 申请号:
    CN201811316987.2
  • IPC分类号:H01L27/11582
  • 申请日期:
    2018-11-07
  • 申请人:
    长江存储科技有限责任公司
著录项信息
专利名称一种三维存储器及其制作方法
申请号CN201811316987.2申请日期2018-11-07
法律状态授权申报国家中国
公开/公告日2019-03-01公开/公告号CN109411480A
优先权暂无优先权号暂无
主分类号H01L27/11582
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IPC结构图谱:
IPC分类号H;0;1;L;2;7;/;1;1;5;8;2查看分类表>
申请人长江存储科技有限责任公司申请人地址
湖北省武汉市洪山区东湖开发区关东科技工业园华光大道18号7018室 变更 专利地址、主体等相关变化,请及时变更,防止失效
权利人长江存储科技有限责任公司当前权利人长江存储科技有限责任公司
发明人王恩博;卢峰;刘沙沙;宋雅丽;樊堃;李兆松;何家兰
代理机构北京集佳知识产权代理有限公司代理人王宝筠
摘要
本发明提供了一种三维存储器及其制作方法,包括:在衬底表面形成堆叠层以及贯穿堆叠层的沟道孔,堆叠层包括多层交替排布的第一氧化层和第一氮化层;在沟道孔的侧壁上形成第二氮化层,对第二氮化层进行氧化形成阻挡层,并保留部分形成在第一氮化层上的第二氮化层,其中保留的第二氮化层形成第一氮化层的第一延伸部;去除堆叠层中的第一氮化层和第一延伸部,并在第一氮化层的区域形成栅极层,在第一延伸部的区域形成栅极延伸部,其中,栅极延伸部从栅极层延伸至阻挡层内部。本发明在不影响三维存储器电学性能的情况下,避免了第二氮化层过氧化导致堆叠层中的氮化层被氧化,进而导致沟道孔内的膜层结构的孔径尺寸过大的问题。

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