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一种纳米金属氧化物及其制备方法、量子点发光二极管

发明专利有效专利
  • 申请号:
    CN201811432411.2
  • IPC分类号:H01L51/50;H01L51/54;H01L51/56
  • 申请日期:
    2018-11-28
  • 申请人:
    TCL集团股份有限公司
著录项信息
专利名称一种纳米金属氧化物及其制备方法、量子点发光二极管
申请号CN201811432411.2申请日期2018-11-28
法律状态授权申报国家中国
公开/公告日2020-06-05公开/公告号CN111244294A
优先权暂无优先权号暂无
主分类号H01L51/50IPC分类号H;0;1;L;5;1;/;5;0;;;H;0;1;L;5;1;/;5;4;;;H;0;1;L;5;1;/;5;6查看分类表>
申请人TCL集团股份有限公司申请人地址
广东省惠州市仲恺高新区惠风三路17号TCL科技大厦 变更 专利地址、主体等相关变化,请及时变更,防止失效
权利人TCL科技集团股份有限公司当前权利人TCL科技集团股份有限公司
发明人程陆玲;杨一行
代理机构深圳市君胜知识产权代理事务所(普通合伙)代理人王永文;刘文求
摘要
本发明公开一种纳米金属氧化物及其制备方法、量子点发光二极管,其中,纳米金属氧化物的制备方法包括步骤:提供一种复合材料,所述复合材料包括PAMAM树形分子以及结合在所述PAMAM树形分子腔体内的金属离子;将所述复合材料加入到纳米金属氧化物生长反应体系中混合,得到所述纳米金属氧化物。本发明能够实现将金属离子均一地掺杂到纳米金属氧化物中,制得缺陷较少、质量较佳的纳米金属氧化物,将所述纳米金属氧化物作为量子点发光二极管的电子传输层材料,可以调节量子点发光二极管的电子迁移率,从而使其电子空穴注入速率达到平衡,进而提高其发光效率。

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