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发光或者受光用半导体器件及其制造方法

发明专利无效专利

申请号：
CN00812460.4
IPC分类号：--
申请日期：
2000-10-20
申请人：
中田仗祐

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法律信息

引证文献

著录项信息

专利名称	发光或者受光用半导体器件及其制造方法
申请号	CN00812460.4	申请日期	2000-10-20
法律状态	权利终止	申报国家	中国
公开/公告日	2002-10-09	公开/公告号	CN1373907
优先权	暂无	优先权号	暂无
主分类号	暂无	IPC分类号	暂无查看分类表>
申请人	中田仗祐	申请人地址	日本*** 变更专利地址、主体等相关变化，请及时变更，防止失效
权利人	思飞乐电力株式会社	当前权利人	思飞乐电力株式会社
发明人	中田仗祐
代理机构	上海专利商标事务所	代理人	臧霁晨

摘要

具有受光功能的半导体器件(10)例如具备由p型的硅单结晶形成的半导体元件(1)、第1，第2平坦面(2，7)、n型扩散层(3)及其pn结(4)、再结晶层(8)、防反射膜(6a)、负电极(9a)以及正电极(9b)等。替代该半导体元件(1)也能够采用圆柱状的半导体元件。

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