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掩膜

发明专利有效专利

申请号：
CN201710556840.X
IPC分类号：G03F1/00;H01L51/56
申请日期：
2017-07-10
申请人：
友达光电股份有限公司

基础信息

权利要求

说明书

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法律信息

引证文献

著录项信息

专利名称	掩膜
申请号	CN201710556840.X	申请日期	2017-07-10
法律状态	授权	申报国家	暂无
公开/公告日	2017-10-24	公开/公告号	CN107290928A
优先权	暂无	优先权号	暂无
主分类号	G03F1/00 ? IPC结构图谱： G 物理 G0 仪器 G03 摄影术；电影术；利用了光波以外其他波的类似技术；电记录术；全息摄影术〔4〕 G03F 图纹面的照相制版工艺，例如，印刷工艺、半导体器件的加工工艺；其所用材料；其所用原版；其所用专用设备（照相排版装置入B41B；为摄影用的感光材料或处理入G03C；电记录、感光层或处理入G03G） G03F1/00 用于图纹面的照相制版的原版，例如掩膜，光掩膜；其所用空白掩膜或其所用薄膜；其专门适用于此的容器；其制备〔3，2012.01〕	IPC分类号	G;0;3;F;1;/;0;0;;;H;0;1;L;5;1;/;5;6查看分类表>
申请人	友达光电股份有限公司	申请人地址	中国台湾新竹科学工业园区新竹市力行二路1号变更专利地址、主体等相关变化，请及时变更，防止失效
权利人	友达光电股份有限公司	当前权利人	友达光电股份有限公司
发明人	江南辉;陈瑞祥;赖俊志;邓博文;陈信宏
代理机构	北京市立康律师事务所	代理人	梁挥;孟超

摘要

本发明公开一种掩膜，包含第一岛状物以及第二岛状物。第二岛状物连接第一岛状物。第二岛状物与第一岛状物在行列方向上都交错排列。每两个邻近的第一岛状物与对应的两个第二岛状物之间夹有通孔。第一岛状物的顶面面积大于第二岛状物的顶面面积。

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