大视场相机远场标校的精密靶标系统及方法

发明专利有效专利

申请号：
CN201710570014.0
IPC分类号：G06T7/80
申请日期：
2017-07-13
申请人：
西安应用光学研究所

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著录项信息

专利名称	大视场相机远场标校的精密靶标系统及方法
申请号	CN201710570014.0	申请日期	2017-07-13
法律状态	授权	申报国家	中国
公开/公告日	2017-12-15	公开/公告号	CN107481289A
优先权	暂无	优先权号	暂无
主分类号	G06T7/80 ? IPC结构图谱： G 物理 G0 仪器 G06 计算；推算；计数 G06T 一般的图像数据处理或产生〔6，2006.01〕 G06T7/00 图像分析〔6，2006.01，2017.01〕 G06T7/80 通过图像分析确定摄像机内部或外部的参数，例如摄像机校准〔2017.01〕	IPC分类号	G;0;6;T;7;/;8;0查看分类表>
申请人	西安应用光学研究所	申请人地址	陕西省西安市雁塔区电子三路西段九号变更专利地址、主体等相关变化，请及时变更，防止失效
权利人	西安应用光学研究所	当前权利人	西安应用光学研究所
发明人	王谭;王磊磊;骆媛;刘虎;王婉丽;张卫国;高瑜;钟莉萍
代理机构	西北工业大学专利中心	代理人	陈星

摘要

本发明公开了大视场相机远场标校的精密靶标系统及方法。包括光学平台、经纬仪、基台、转台、俯仰台、平移台、二爪定心卡盘、平面反射镜、圆盘水平仪和待校相机等；经纬仪与基台相对且安置于光学平台；转台基座安装于基台；俯仰台与转台台面固定；平移台固定于俯仰台台面；待校相机通过二爪定心卡盘固定于平移台运动部件；平面反射镜垂直安装于二爪定心卡盘侧面。工作时，调整经纬仪基座和基台保持水平；调整待校相机的光轴与经纬仪出射光线平行，使系统到达零位；按照采样点设定，通过转台、俯仰台和平移台调整待校相机的位置和角度，并拍照，最终实现待校相机不同视场的远场标定。本发明结构简单、紧凑，实现了大视场相机的远场精密标校。

序号	公开(公告)号	公开(公告)日	申请日	专利名称	申请人
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