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用于鳍式场效应晶体管的源极和漏极形成技术

发明专利有效专利
  • 申请号:
    CN201710789333.0
  • IPC分类号:H01L21/8234
  • 申请日期:
    2017-09-05
  • 申请人:
    台湾积体电路制造股份有限公司
著录项信息
专利名称用于鳍式场效应晶体管的源极和漏极形成技术
申请号CN201710789333.0申请日期2017-09-05
法律状态授权申报国家中国
公开/公告日2018-06-29公开/公告号CN108231684A
优先权暂无优先权号暂无
主分类号H01L21/8234
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IPC结构图谱:
IPC分类号H;0;1;L;2;1;/;8;2;3;4查看分类表>
申请人台湾积体电路制造股份有限公司申请人地址
中国台湾新竹 变更 专利地址、主体等相关变化,请及时变更,防止失效
权利人台湾积体电路制造股份有限公司当前权利人台湾积体电路制造股份有限公司
发明人邱耀德;吕伟元;郭建亿;杨世海;陈燕铭
代理机构北京德恒律治知识产权代理有限公司代理人章社杲;李伟
摘要
本发明公开了用于鳍式场效应晶体管(FinFET)的源极和漏极形成技术。用于形成FinFET的外延源极/漏极部件的示例性方法包括使用含硅前体和含氯前体在多个鳍上外延生长半导体材料。半导体材料合并以形成跨越多个鳍的外延部件,其中多个鳍具有小于约25nm的鳍间隔。含硅前体的流量与含氯前体的流量的比率小于约5。该方法还包括使用含氯前体回蚀刻半导体材料,从而改变外延部件的轮廓。仅实施一次外延生长和回蚀刻。在FinFET是n型FinFET的一些实施方式中,外延生长还使用含磷前体。

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