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一种自定位印控机高拍底座

实用新型专利有效专利
  • 申请号:
    CN202120394957.4
  • IPC分类号:F16M11/22
  • 申请日期:
    2021-02-22
  • 申请人:
    杭州日美开开电子科技有限公司
著录项信息
专利名称一种自定位印控机高拍底座
申请号CN202120394957.4申请日期2021-02-22
法律状态授权申报国家中国
公开/公告日公开/公告号
优先权暂无优先权号暂无
主分类号F16M11/22IPC分类号F;1;6;M;1;1;/;2;2查看分类表>
申请人杭州日美开开电子科技有限公司申请人地址
浙江省杭州市宁围街道新安村 变更 专利地址、主体等相关变化,请及时变更,防止失效
权利人杭州日美开开电子科技有限公司当前权利人杭州日美开开电子科技有限公司
发明人龚苗苗;龚大样;胡型盈
代理机构北京沁优知识产权代理有限公司代理人林捷达
摘要
一种自定位印控机高拍底座,包括拍摄基座和拍摄垫,拍摄基座安装在拍摄垫上,拍摄基座中间位置下凹形成上侧开口的腔室,拍摄基座包括下基座和上基座,上基座包括相互对称的第一组块和相互对称的第二组块,第一组块朝向彼此的侧边为第一圆弧,第二组块朝向彼此的侧边为第二圆弧,第一圆弧与第二圆弧的直径不同。本实用新型通过拍摄垫和拍摄基座的位置配合,使得能够确定一定的拍摄区域和拍摄角度,方便工作人员拍摄,减少拍摄时间,拍摄垫可以减少印控机底部的磨损,使得拍摄精度更高,印控机使用寿命更长。

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