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一种半导体器件的制造方法

发明专利有效专利
  • 申请号:
    CN201110407018.X
  • IPC分类号:H01L21/336
  • 申请日期:
    2011-12-08
  • 申请人:
    中芯国际集成电路制造(上海)有限公司
著录项信息
专利名称一种半导体器件的制造方法
申请号CN201110407018.X申请日期2011-12-08
法律状态授权申报国家暂无
公开/公告日2013-06-19公开/公告号CN103165449A
优先权暂无优先权号暂无
主分类号H01L21/336IPC分类号H;0;1;L;2;1;/;3;3;6查看分类表>
申请人中芯国际集成电路制造(上海)有限公司申请人地址
上海市浦东新区张江路18号 变更 专利地址、主体等相关变化,请及时变更,防止失效
权利人中芯国际集成电路制造(上海)有限公司当前权利人中芯国际集成电路制造(上海)有限公司
发明人张海洋;王新鹏
代理机构北京市磐华律师事务所代理人董巍;顾珊
摘要
本发明提供一种半导体器件的制造方法,包括:提供半导体衬底,在所述半导体衬底上形成一介电层,并蚀刻所述介电层以使所述介电层呈鳍形;在所述半导体衬底上形成一牺牲层,以覆盖所述呈鳍形的介电层;蚀刻所述牺牲层,以在所述呈鳍形的介电层的两侧形成一侧壁体;对所述侧壁体进行氢气退火,以在所述呈鳍形的介电层的两侧形成一金属层;在所述金属层上形成一石墨烯层以覆盖所述金属层;对所述金属层实施脱湿及蒸发处理,以实现所述石墨烯层和所述金属层之间的剥离。根据本发明,可以形成包含单层结构的石墨烯的鳍(Fin)形沟道,进而提高FinFet器件的电学性能。

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