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MgGa2O4紫外探测器及其制备方法

发明专利有效专利
  • 申请号:
    CN202010801451.0
  • IPC分类号:H01L31/0328;H01L31/108;H01L31/18;H01L21/02
  • 申请日期:
    2020-08-11
  • 申请人:
    中国科学院长春光学精密机械与物理研究所
著录项信息
专利名称MgGa2O4紫外探测器及其制备方法
申请号CN202010801451.0申请日期2020-08-11
法律状态实质审查申报国家中国
公开/公告日2020-10-23公开/公告号CN111816720A
优先权暂无优先权号暂无
主分类号H01L31/0328
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IPC结构图谱:
IPC分类号H;0;1;L;3;1;/;0;3;2;8;;;H;0;1;L;3;1;/;1;0;8;;;H;0;1;L;3;1;/;1;8;;;H;0;1;L;2;1;/;0;2查看分类表>
申请人中国科学院长春光学精密机械与物理研究所申请人地址
吉林省长春市经济技术开发区东南湖大路3888号 变更 专利地址、主体等相关变化,请及时变更,防止失效
权利人中国科学院长春光学精密机械与物理研究所当前权利人中国科学院长春光学精密机械与物理研究所
发明人刘可为;侯其超;申德振;陈星;张振中;李炳辉
代理机构深圳市科进知识产权代理事务所(普通合伙)代理人曹卫良
摘要
本发明提供一种MgGa2O4紫外探测器及其制备方法,其中的方法包括:S1、以有机镁化合物作为镁源,有机镓化合物作为镓源,以高纯氧气为氧源,利用金属有机化合物化学气相沉积法在衬底的表面生长MgGa2O4薄膜;S2、在MgGa2O4薄膜上使用负胶光刻形成叉指电极掩膜,在叉指电极掩膜溅射金属后将叉指电极掩膜去除,形成叉指电极;S3、在叉指电极上按压In粒,得到MSM结构的MgGa2O4紫外探测器。与现有技术相比,本发明使用金属有机化合物化学气相沉积法制备MgGa2O4薄膜,通过增加氧气流量、增加氧分压、减少氧缺陷的方式,使得制备的MgGa2O4薄膜具有结晶质量高、不出现分相、吸收截止边陡峭等特点,进而使包含MgGa2O4薄膜的紫外探测器具有较低的暗电流和较快的光响应速度。

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