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互补金属氧化物半导体图像传感器及其制造方法

发明专利无效专利
  • 申请号:
    CN200710042152.8
  • IPC分类号:H01L21/822;H01L21/768;H01L27/146;H01L23/522;H01L23/532
  • 申请日期:
    2007-06-18
  • 申请人:
    中芯国际集成电路制造(上海)有限公司
著录项信息
专利名称互补金属氧化物半导体图像传感器及其制造方法
申请号CN200710042152.8申请日期2007-06-18
法律状态权利终止申报国家中国
公开/公告日2008-12-24公开/公告号CN101330050
优先权暂无优先权号暂无
主分类号H01L21/822
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IPC结构图谱:
IPC分类号H;0;1;L;2;1;/;8;2;2;;;H;0;1;L;2;1;/;7;6;8;;;H;0;1;L;2;7;/;1;4;6;;;H;0;1;L;2;3;/;5;2;2;;;H;0;1;L;2;3;/;5;3;2查看分类表>
申请人中芯国际集成电路制造(上海)有限公司申请人地址
上海市浦东新区张江路18号 变更 专利地址、主体等相关变化,请及时变更,防止失效
权利人中芯国际集成电路制造(上海)有限公司当前权利人中芯国际集成电路制造(上海)有限公司
发明人杨承;罗飞;徐锦心;朱虹
代理机构北京集佳知识产权代理有限公司代理人李文红
摘要
一种互补金属氧化物半导体图像传感器的制造方法,包括:提供具有金属氧化物半导体器件和光敏区的半导体衬底;在所述半导体衬底上形成介质层;在所述介质层中形成底部露出所述光敏区的第一开口;在所述第一开口中填充导电硅材料,形成第一接触塞;在形成有所述第一接触塞的介质层中形成第二开口;在所述第二开口中形成与所述金属氧化物半导体器件连接的第二接触塞。本发明还提供一种互补金属氧化物半导体图像传感器。本发明可减小互补金属氧化物半导体图像传感器的漏电流,提高器件的性能。

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