光学级CVD金刚石膜片的制备系统

实用新型专利有效专利

申请号：
CN202021310823.1
IPC分类号：C23C16/27;C23C16/458;C23C16/52;C23C16/503
申请日期：
2020-07-07
申请人：
天津市宝利欣超硬材料有限公司

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著录项信息

专利名称	光学级CVD金刚石膜片的制备系统
申请号	CN202021310823.1	申请日期	2020-07-07
法律状态	授权	申报国家	中国
公开/公告日		公开/公告号
优先权	暂无	优先权号	暂无
主分类号	C23C16/27 ? IPC结构图谱： C 化学；冶金 C2 冶金 C23 对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面化学处理；金属材料的扩散处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆；金属材料腐蚀或积垢的一般抑制〔2〕 C23C 对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面扩散法，化学转化或置换法的金属材料表面处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆（挤压法制造包覆金属的产品入B21C23/22；通过将预先存在的薄层连接到制品上的方法用金属进行镀覆处理的见各有关位置，例如B21D39/00，B23K；玻璃的金属化入C03C；砂浆、混凝土、人造石、陶瓷或天然石的金属化入C04B41/00；金属的搪瓷或向金属上镀覆玻璃体层入c23D；用电解法或电泳法处理金属表面或镀覆金属入C25D；单晶膜生长入C30B；纺织品的金属化入D06M11/83；用局部金属化法装饰纺织品入D06Q1/04）〔4〕 C23C16/00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆，例如化学气相沉积（CVD）工艺（反应溅射或真空蒸发入C23C 14/00）〔4〕 C23C16/22 以沉积金属材料以外之无机材料为特征的〔4〕 C23C16/26 仅沉积碳〔4〕 C23C16/27 仅沉积金刚石〔7〕	IPC分类号	C;2;3;C;1;6;/;2;7;;;C;2;3;C;1;6;/;4;5;8;;;C;2;3;C;1;6;/;5;2;;;C;2;3;C;1;6;/;5;0;3查看分类表>
申请人	天津市宝利欣超硬材料有限公司	申请人地址	天津市北辰区科技园区淮河道地天泰工业园内C座变更专利地址、主体等相关变化，请及时变更，防止失效
权利人	天津市宝利欣超硬材料有限公司	当前权利人	天津市宝利欣超硬材料有限公司
发明人	裴珍玉;张代涛
代理机构	天津企兴智财知识产权代理有限公司	代理人	蒋宏洋

摘要

本实用新型提供了一种光学级CVD金刚石膜片的制备系统，包括反应室，反应室内的上部安装有等离子炬，反应室内的下部设置有沉积区；等离子炬外周设置有励磁线圈；等离子炬与励磁线圈之间具有间隙；反应室外周设置有冷却腔；冷却腔主体成U形；冷却腔的U形两侧区域一直延伸至离子炬与励磁线圈之间的间隙内形成冷却用的通道；冷却腔内螺旋分布设置有冷却管，冷却管内有冷却水；沉积区内可升降设置有升降台；升降台上方转动设置有基盘；基盘底面中央固定设置有基座。本实用新型所述的光学级CVD金刚石膜片的制备系统，操作方便，适用于制备光学级CVD金刚石膜片。

序号	公开(公告)号	公开(公告)日	申请日	专利名称	申请人
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