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一种基于电光效应的PLZT薄膜啁啾光栅调谐装置

发明专利有效专利
  • 申请号:
    CN202110295116.2
  • IPC分类号:G02F1/035;G02F1/03;G02B6/02
  • 申请日期:
    2021-03-19
  • 申请人:
    中国计量大学
著录项信息
专利名称一种基于电光效应的PLZT薄膜啁啾光栅调谐装置
申请号CN202110295116.2申请日期2021-03-19
法律状态实质审查申报国家中国
公开/公告日2021-05-28公开/公告号CN112859393A
优先权暂无优先权号暂无
主分类号G02F1/035IPC分类号G;0;2;F;1;/;0;3;5;;;G;0;2;F;1;/;0;3;;;G;0;2;B;6;/;0;2查看分类表>
申请人中国计量大学申请人地址
浙江省杭州市下沙高教园区学源街258号中国计量大学 变更 专利地址、主体等相关变化,请及时变更,防止失效
权利人中国计量大学当前权利人中国计量大学
发明人王志浩;沈常宇;王凯晴;黄振林;刘洋;张岳铭
代理机构暂无代理人暂无
摘要
本发明公开了一种基于电光效应的PLZT薄膜啁啾光栅调谐装置,由光纤、光纤固定架、PLZT薄膜啁啾光纤光栅、高压电场发生器阴极、高压电场发生器阳极和绝缘底板组成,其中高压电场发生器阴极和高压电场发生器阳极通过改变施加在PLZT薄膜啁啾光栅上的电场大小,激发PLZT薄膜的电光效应,实现PLZT薄膜啁啾光纤光栅的色散补偿量调节;PLZT薄膜啁啾光纤光栅的制备如下:首先采用磁控溅射镀膜法将PLZT薄膜镀到包层被氢氟酸腐蚀的光敏光纤上并进行高温退火处理,然后对镀有PLZT薄膜的光敏光纤进行载氢处理,最后采用相位掩模板刻栅法在载氢后的光敏光纤的镀膜位置刻写啁啾光栅;本发明借助PLZT薄膜优良的电光效应,提高了啁啾光纤光栅的调谐精度,缩短了调谐响应时间。

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