一种可自动清理刻蚀反应物的等离子刻蚀机

发明专利有效专利

申请号：
CN202110559886.3
IPC分类号：H01L21/67;H01J37/32;B08B7/02;B08B1/00;B08B13/00
申请日期：
2021-05-21
申请人：
赵姣锋

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专利名称	一种可自动清理刻蚀反应物的等离子刻蚀机
申请号	CN202110559886.3	申请日期	2021-05-21
法律状态	公开	申报国家	中国
公开/公告日	2021-09-24	公开/公告号	CN113436990A
优先权	暂无	优先权号	暂无
主分类号	H01L21/67 ? IPC结构图谱： H 电学 H9 电学 H01 基本电气元件 H01L 半导体器件；其他类目中不包括的电固体器件（使用半导体器件的测量入G01；一般电阻器入H01C；磁体、电感器、变压器入H01F；一般电容器入H01G；电解型器件入H01G 9/00；电池组、蓄电池入H01M；波导管、谐振器或波导型线路入H01P；线路连接器、汇流器入H01R；受激发射器件入H01S；机电谐振器入H03H；扬声器、送话器、留声机拾音器或类似的声机电传感器入H04R；一般电光源入H05B；印刷电路、混合电路、电设备的外壳或结构零部件、电气元件的组件的制造入H05K；在具有特殊应用的电路中半导体器件的使用见该应用的小类）〔2〕 H01L21/00 专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备〔2，8〕 H01L21/67 专门适用于在制造或处理过程中处理半导体或电固体器件的装置；专门适合于在半导体或电固体器件或部件的制造或处理过程中处理晶片的装置〔8〕	IPC分类号	H;0;1;L;2;1;/;6;7;;;H;0;1;J;3;7;/;3;2;;;B;0;8;B;7;/;0;2;;;B;0;8;B;1;/;0;0;;;B;0;8;B;1;3;/;0;0查看分类表>
申请人	赵姣锋	申请人地址	陕西省西安市长安区造字台路109号初元科技园变更专利地址、主体等相关变化，请及时变更，防止失效
权利人	赵姣锋	当前权利人	赵姣锋
发明人	赵姣锋
代理机构	暂无	代理人	暂无

摘要

本发明公开了一种可自动清理刻蚀反应物的等离子刻蚀机，包括外框和夹紧框，所述夹紧框上表面固定连接有滑块框，所述滑块框内滑动连接有滑块，所述夹紧框内设有使晶圆夹紧的夹紧机构，所述外框的顶部固定连接有电机，所述电机的输出轴穿过外框并固定连接有安装轴，所述安装轴的底部穿过并固定连接有斜圆柱，所述安装轴的底部内侧花键连接有弹簧块，所述弹簧块穿过安装轴底面并与滑块固定连接，所述夹紧框上设有使晶圆振动的振动机构，所述振动机构包括底座和第四弹簧，所述第四弹簧套设在弹簧块表面，且所述第四弹簧位于弹簧块与安装轴内底面之间。本发明初步清除表面反应物时所产生的振动效果显著，使后续的清除效率提高。

序号	公开(公告)号	公开(公告)日	申请日	专利名称	申请人
该专利没有引用任何外部专利数据！

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