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光学元件制造方法、光学元件、尼普科夫盘、共焦光学系统以及三维测量装置

发明专利有效专利

申请号：
CN200580037028.1
IPC分类号：G02B5/00;G02B5/02;G01B11/24;G02B21/00
申请日期：
2005-10-24
申请人：
株式会社尼康

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法律信息

引证文献

著录项信息

专利名称	光学元件制造方法、光学元件、尼普科夫盘、共焦光学系统以及三维测量装置
申请号	CN200580037028.1	申请日期	2005-10-24
法律状态	授权	申报国家	中国
公开/公告日	2007-10-03	公开/公告号	CN101048676
优先权	暂无	优先权号	暂无
主分类号	G02B5/00 ? IPC结构图谱： G 物理 G0 仪器 G02 光学 G02B 光学元件、系统或仪器（G02F优先；专用于照明装置或系统的光学元件入F21V 1/00至F21V 13/00；测量仪器见G01类的有关小类，例如，光学测距仪入G01C；光学元件、系统或仪器的测试入G01M 11/00；眼镜入G02C；摄影、放映或观看用的装置或设备入G03B；声透镜入G10K 11/30；电子和离子“光学”入H01J；X射线“光学”入H01J，H05G 1/00；结构上与放电管相组合的光学元件入H01J 5/16，H01J 29/89，H01J 37/22；微波“光学”入H01Q；光学元件与电视接收机的组合装置入H04N 5/72；彩色电视系统中的光学系统或装置入H04N 9/00；专门适用于透明或反射区的加热装置入H05B 3/84）〔1，7〕 G02B5/00 除透镜外的光学元件（光波导入G02B 6/00；光学逻辑元件入G02F 3/00）〔4〕	IPC分类号	G;0;2;B;5;/;0;0;;;G;0;2;B;5;/;0;2;;;G;0;1;B;1;1;/;2;4;;;G;0;2;B;2;1;/;0;0查看分类表>
申请人	株式会社尼康	申请人地址	日本东京变更专利地址、主体等相关变化，请及时变更，防止失效
权利人	株式会社尼康	当前权利人	株式会社尼康
发明人	浜村宽;门松洁;雨宫升
代理机构	中原信达知识产权代理有限责任公司	代理人	刘建功;车文

摘要

一种光学元件制造方法包括：设置遮光层(14)，该遮光层包括在用作基底件的基质上的作为最上层的至少Si层；在遮光层(14)上形成光学孔径(14a)；以及通过干法蚀刻在最上层的表面上形成微小的凹进/凸起结构。

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