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弱磁性纳微米粒子图案化的高分子薄膜、加工方法及加工设备

发明专利无效专利
  • 申请号:
    CN200810239308.6
  • IPC分类号:B32B7/02;B32B33/00;C08J7/04;C03C17/28;C04B41/48;H01F7/00
  • 申请日期:
    2008-12-09
  • 申请人:
    青岛科技大学
著录项信息
专利名称弱磁性纳微米粒子图案化的高分子薄膜、加工方法及加工设备
申请号CN200810239308.6申请日期2008-12-09
法律状态权利终止申报国家中国
公开/公告日2009-05-13公开/公告号CN101428491
优先权暂无优先权号暂无
主分类号B32B7/02IPC分类号B;3;2;B;7;/;0;2;;;B;3;2;B;3;3;/;0;0;;;C;0;8;J;7;/;0;4;;;C;0;3;C;1;7;/;2;8;;;C;0;4;B;4;1;/;4;8;;;H;0;1;F;7;/;0;0查看分类表>
申请人青岛科技大学申请人地址
山东省青岛市四方区郑州路53号 变更 专利地址、主体等相关变化,请及时变更,防止失效
权利人青岛科技大学当前权利人青岛科技大学
发明人朴光哲;邹凯;韩铸;丁乃秀;李桂村;李荣勋;刘光烨;木村恒久
代理机构北京法思腾知识产权代理有限公司代理人史和初
摘要
本发明涉及弱磁性纳微米粒子图案化的高分子薄膜、加工方法及加工设备,其中高分子薄膜为添加到高分子中的弱磁性纳微米粒子在基底内呈条状或阵列排列或图案化的定向取向的高分子薄膜,该高分子薄膜是由试样容器、磁场调制器和磁场发射器组成的加工设备中得到的。本发明提供的高分子薄膜结构独特新颖,加工方法及设备简单,操作灵活方便,功能性强,可广泛应用于信息、生物、电子工程式等领域。

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