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一种在隔热瓦上形成高发射率涂层的制备方法

发明专利有效专利
  • 申请号:
    CN202110647944.8
  • IPC分类号:C04B41/89;C04B41/87
  • 申请日期:
    2021-06-10
  • 申请人:
    航天特种材料及工艺技术研究所
著录项信息
专利名称一种在隔热瓦上形成高发射率涂层的制备方法
申请号CN202110647944.8申请日期2021-06-10
法律状态实质审查申报国家中国
公开/公告日2021-08-27公开/公告号CN113307659A
优先权暂无优先权号暂无
主分类号C04B41/89IPC分类号C;0;4;B;4;1;/;8;9;;;C;0;4;B;4;1;/;8;7查看分类表>
申请人航天特种材料及工艺技术研究所申请人地址
北京市丰台区云岗北里40号院 变更 专利地址、主体等相关变化,请及时变更,防止失效
权利人航天特种材料及工艺技术研究所当前权利人航天特种材料及工艺技术研究所
发明人刘晓波;安煊熜;高宇智;李健;张杨;张凡;李文静;权成;杨洁颖;张昊
代理机构北京格允知识产权代理有限公司代理人谭辉
摘要
本发明涉及一种在隔热瓦上形成高发射率涂层的制备方法。所述制备方法简单易操作,所需设备为常规干燥烧结设备,制备过程无有害溶剂,安全可靠,绿色环保;所制备的高发射率涂层强度高,韧性好,耐高温气流冲刷,与隔热瓦基体之间的结合强度大,结构协调匹配性好,抗热震性能优异;所述制备方法适用于石英陶瓷隔热瓦、石英/氧化铝陶瓷隔热瓦等各类陶瓷隔热瓦表面高发射率涂层制备,适用材料体系范围广,制备工艺具有普适性。

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