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耐紫外辐照无色透明聚酰亚胺薄膜及其制备方法和应用

发明专利有效专利
  • 申请号:
    CN202010627047.6
  • IPC分类号:C08L79/08C08L79/04C08K5/3435C08L67/02C08J5/18C08G73/10
  • 申请日期:
    2020-07-02
  • 申请人:
    中国地质大学(北京)
著录项信息
专利名称耐紫外辐照无色透明聚酰亚胺薄膜及其制备方法和应用
申请号CN202010627047.6申请日期2020-07-02
法律状态实质审查申报国家中国
公开/公告日2020-09-22公开/公告号CN111690257A
优先权暂无优先权号暂无
主分类号C08L79/08IPC分类号C08L79/08;C08L79/04;C08K5/3435;C08L67/02;C08J5/18;C08G73/10查看分类表>
申请人中国地质大学(北京)申请人地址
北京市海淀区学院路*** 变更 专利地址、主体等相关变化,请及时变更,防止失效
权利人中国地质大学(北京)当前权利人中国地质大学(北京)
发明人刘金刚;魏鑫莹;职欣心;张燕;吴琳;祁浩然
代理机构北京兴智翔达知识产权代理有限公司代理人蒋常雪
摘要
本发明提供了一种耐紫外辐照无色透明聚酰亚胺薄膜及其制备方法和应用。该耐紫外辐照无色透明聚酰亚胺薄膜由式I所示的PI基体树脂与受阻胺类UV稳定剂复合制得,其中,所述受阻胺类UV稳定剂的数均分子量不低于1000g/mol。本发明将PI基体树脂与适宜比例的UV稳定剂充分混合后制得的复合薄膜兼具优良的耐热稳定性、高玻璃化转变温度(Tg)、高透明性以及优异的耐UV辐照性能。本发明提供的耐UV辐照型无色透明聚酰亚胺薄膜可作为柔性材料应用于太阳能电池、柔性印刷电路板、微电子以及汽车等高技术领域。

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