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一种光闸莫尔条纹焦面检测方法

发明专利无效专利
  • 申请号:
    CN201110169156.9
  • IPC分类号:G03F7/20
  • 申请日期:
    2011-06-17
  • 申请人:
    中国科学院光电技术研究所
著录项信息
专利名称一种光闸莫尔条纹焦面检测方法
申请号CN201110169156.9申请日期2011-06-17
法律状态权利终止申报国家中国
公开/公告日2011-11-02公开/公告号CN102231046A
优先权暂无优先权号暂无
主分类号G03F7/20IPC分类号G;0;3;F;7;/;2;0查看分类表>
申请人中国科学院光电技术研究所申请人地址
四川省成都市双流350信箱 变更 专利地址、主体等相关变化,请及时变更,防止失效
权利人中国科学院光电技术研究所当前权利人中国科学院光电技术研究所
发明人严伟;李艳丽;杨勇;王建;陈铭勇;邸成良
代理机构中科专利商标代理有限责任公司代理人梁爱荣
摘要
本发明是一种光闸莫尔条纹焦面检测系统,用于投影光刻机非接触快速焦面检测,该装置包括照明光源、扩束准直镜组、第一光栅、第一远心成像镜组、第二远心成像镜组、第二光栅、聚光镜、光电检测单元和硅片组成,该系统基于三角测量的基本原理,利用双光栅光闸莫尔条纹的光强调制特性,构建单个光栅周期内,焦面位移量和光能量线性关系。该系统是一种非接触、快速的光学测量手段,为投影光刻高精度实时焦面检测提供有效手段。

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