等离子体处理装置

发明专利有效专利

申请号：
CN201210436576.3
IPC分类号：H01J37/32;H01J37/20
申请日期：
2012-11-05
申请人：
松下电器产业株式会社

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法律信息

引证文献

著录项信息

专利名称	等离子体处理装置
申请号	CN201210436576.3	申请日期	2012-11-05
法律状态	暂无	申报国家	中国
公开/公告日	2013-05-08	公开/公告号	CN103094043A
优先权	暂无	优先权号	暂无
主分类号	H01J37/32 ? IPC结构图谱： H 电学 H9 电学 H01 基本电气元件 H01J 放电管或放电灯（火花隙入H01T；消耗电极的弧光灯入H05B；粒子加速器入H05H） H01J37/00 有把物质或材料引入使受到放电作用的结构的电子管，例如为了对其检验或加工的（H01J 33/00、H01J 40/00、H01J 41/00、H01J 47/00、H01J 49/00优先）〔2，5〕 H01J37/32 充气放电管（放电加热的入H05B）	IPC分类号	H;0;1;J;3;7;/;3;2;;;H;0;1;J;3;7;/;2;0查看分类表>
申请人	松下电器产业株式会社	申请人地址	日本国大阪府变更专利地址、主体等相关变化，请及时变更，防止失效
权利人	松下知识产权经营株式会社	当前权利人	松下知识产权经营株式会社
发明人	置田尚吾;渡边彰三;岩井哲博
代理机构	中科专利商标代理有限责任公司	代理人	汪惠民

摘要

本发明提供一种具有简单的装置结构而实现小型化，且能够有效降低基板或托盘上的气体的流动或压力分布偏差的等离子体处理装置。干式蚀刻装置(1)的腔室(5)具备：具有顶壁(8)、底壁(7)、侧壁(9)、端壁(11)及开口端(12)的一体结构的腔室主体(6)；封闭开口端(12)的盖体(16)。在处理对象物支承台(26)的基座(31)的侧部(31a)设有凹部(51)，该凹部(51)确保气体在端壁(11)和处理对象物支承台(26)间流动的充分空间。

序号	公开(公告)号	公开(公告)日	申请日	专利名称	申请人
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