用于EUV的自由电子激光器辐射源

发明专利有效专利

申请号：
CN201580043627.8
IPC分类号：H01S3/09;H01S3/00
申请日期：
2015-07-27
申请人：
ASML荷兰有限公司

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著录项信息

专利名称	用于EUV的自由电子激光器辐射源
申请号	CN201580043627.8	申请日期	2015-07-27
法律状态	授权	申报国家	中国
公开/公告日	2017-05-31	公开/公告号	CN106797101A
优先权	暂无	优先权号	暂无
主分类号	H01S3/09 ? IPC结构图谱： H 电学 H9 电学 H01 基本电气元件 H01S 利用受激发射的器件 H01S3/00 激光器，即利用受激发射对红外光、可见光或紫外线进行产生、放大、调制、解调或变频的器件（半导体激光器入H01S 5/00） H01S3/09 激励的方法或装置，例如泵激励	IPC分类号	H;0;1;S;3;/;0;9;;;H;0;1;S;3;/;0;0查看分类表>
申请人	ASML荷兰有限公司	申请人地址	荷兰维德霍温变更专利地址、主体等相关变化，请及时变更，防止失效
权利人	ASML荷兰有限公司	当前权利人	ASML荷兰有限公司
发明人	安德雷·亚历山德罗维奇·尼基佩洛夫;T·J·克嫩;J·J·M·范海尔福尔特;W·J·恩格伦;G·J·H·布鲁斯阿德;G·G·波尔特;E·R·鲁普斯特拉
代理机构	中科专利商标代理有限责任公司	代理人	王静

摘要

协调了在电子聚束的加速阶段电子聚束穿过线性加速器(LINAC)与在电子聚束的减速阶段电子聚束穿过所述LINAC。根据重复电子聚束序列而将每个连续电子聚束对在时间上间隔开相应的聚束间隔。电子源在所述电子聚束序列中提供清除间隙以允许在波荡器处的离子的清除。所述电子源根据清除间隙序列而提供所述清除间隙，使得对于多个能量恢复LINAC中的每个和对于实质上所有所述清除间隙：对于在加速阶段或减速阶段中的所述清除间隙的每次穿过所述LINAC，协调了所述清除间隙与在减速阶段或加速阶段中穿过所述LINAC的所述清除间隙中的另外一个清除间隙，由此维持所述LINAC的能量恢复操作。

序号	公开(公告)号	公开(公告)日	申请日	专利名称	申请人
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