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一种基于离子注入的铌酸锂或钽酸锂晶圆黑化方法

发明专利有效专利
  • 申请号:
    CN202010602379.9
  • IPC分类号:H01L41/253;H01L41/22
  • 申请日期:
    2020-06-29
  • 申请人:
    中国科学院上海微系统与信息技术研究所
著录项信息
专利名称一种基于离子注入的铌酸锂或钽酸锂晶圆黑化方法
申请号CN202010602379.9申请日期2020-06-29
法律状态实质审查申报国家中国
公开/公告日2020-10-20公开/公告号CN111799364A
优先权暂无优先权号暂无
主分类号H01L41/253IPC分类号H;0;1;L;4;1;/;2;5;3;;;H;0;1;L;4;1;/;2;2查看分类表>
申请人中国科学院上海微系统与信息技术研究所申请人地址
上海市长宁区长宁路865号 变更 专利地址、主体等相关变化,请及时变更,防止失效
权利人中国科学院上海微系统与信息技术研究所当前权利人中国科学院上海微系统与信息技术研究所
发明人欧欣;孙嘉良;游天桂;林家杰
代理机构广州三环专利商标代理有限公司代理人郝传鑫;贾允
摘要
本申请提供一种基于离子注入的铌酸锂或钽酸锂晶圆黑化方法,包括以下步骤:获取晶圆,所述晶圆为铌酸锂晶圆或钽酸锂晶圆;对所述晶圆进行还原性离子注入处理,获得注入还原性离子的晶圆;将所述注入还原性离子的晶圆进行退火处理。该方法基于离子注入进行晶圆黑化,能够在不影响材料压电性能的情况下,获得高质量黑化晶圆。该方法利用离子注入技术,将Fe2+等还原性离子注入到铌酸锂或钽酸锂晶圆,Fe2+等的注入会占据晶格中原本更高价态离子的格点,增加铌酸锂或钽酸锂晶体中的氧空位浓度,使晶圆内的载流子浓度提升,进而提高晶圆的电导率,降低电阻率,随后对晶圆进行退火修复,能够有效降低晶体的热释电效应。

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