掩模基板及光掩模

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专利名称	掩模基板及光掩模
申请号	CN200780005734.7	申请日期	2007-02-15
法律状态	授权	申报国家	中国
公开/公告日	2009-03-11	公开/公告号	CN101384957
优先权	暂无	优先权号	暂无
主分类号	G03F1/08 ? IPC结构图谱： G 物理 G0 仪器 G03 摄影术；电影术；利用了光波以外其他波的类似技术；电记录术；全息摄影术〔4〕 G03F 图纹面的照相制版工艺，例如，印刷工艺、半导体器件的加工工艺；其所用材料；其所用原版；其所用专用设备（照相排版装置入B41B；为摄影用的感光材料或处理入G03C；电记录、感光层或处理入G03G） G03F1/08 （转入G03F 1/00-G03F 1/86）	IPC分类号	G;0;3;F;1;/;0;8查看分类表>
申请人	HOYA株式会社	申请人地址	日本东京都变更专利地址、主体等相关变化，请及时变更，防止失效
权利人	HOYA株式会社	当前权利人	HOYA株式会社
发明人	三井胜;佐野道明;牛田正男
代理机构	中科专利商标代理有限责任公司	代理人	李贵亮

摘要

本发明提供适于FPD用大型掩模的方法(抗蚀剂涂覆方法或蚀刻方法、洗涤方法等)的掩模基板和光掩模。其为用于制造在透光性基板上具有遮光性膜和具有调整透射量的功能的半透光性膜中至少一个的FPD设备的掩模基板，其特征在于，上述遮光性膜和上述半透光性膜的膜表面的均方根粗糙度Rq为2.0nm以下。

序号	公开(公告)号	公开(公告)日	申请日	专利名称	申请人
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