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台系统和光刻设备

发明专利有效专利
  • 申请号:
    CN201810554117.2
  • IPC分类号:G03F7/20
  • 申请日期:
    2015-06-25
  • 申请人:
    ASML荷兰有限公司
著录项信息
专利名称台系统和光刻设备
申请号CN201810554117.2申请日期2015-06-25
法律状态实质审查申报国家中国
公开/公告日2018-11-30公开/公告号CN108919606A
优先权暂无优先权号暂无
主分类号G03F7/20IPC分类号G;0;3;F;7;/;2;0查看分类表>
申请人ASML荷兰有限公司申请人地址
荷兰维德霍温 变更 专利地址、主体等相关变化,请及时变更,防止失效
权利人ASML荷兰有限公司当前权利人ASML荷兰有限公司
发明人G·纳齐博格鲁;S·考斯吉恩斯;F·J·J·范鲍克斯台尔;E·范德帕斯奇;A·奈斯特;L·索桑娜
代理机构中科专利商标代理有限责任公司代理人王静
摘要
光刻设备包括光学传感器(24)、可移动主体(20)、支撑件、偏转器系统(22)、第一驱动系统和第二驱动系统。可移动主体能够相对于传感器移动。支撑件用于保持传感器。第一驱动系统被设置为使可移动主体相对于传感器移动。第二驱动系统被设置为使第一驱动系统相对于传感器移动。第二驱动系统被设置为使偏转器系统相对于传感器移动。可移动主体的移动引起扰动。偏转器系统被设置为形成用于将扰动反射离开支撑件的偏转区域。

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