等离子体加工装置

发明专利无效专利

申请号：
CN200810150008.0
IPC分类号：C03C23/00
申请日期：
2008-06-06
申请人：
西安工业大学

基础信息

权利要求

说明书

PDF全文

法律信息

引证文献

著录项信息

专利名称	等离子体加工装置
申请号	CN200810150008.0	申请日期	2008-06-06
法律状态	驳回	申报国家	中国
公开/公告日	2008-10-22	公开/公告号	CN101289285
优先权	暂无	优先权号	暂无
主分类号	C03C23/00 ? IPC结构图谱： C 化学；冶金 C0 化学 C03 玻璃；矿棉或渣棉 C03C 玻璃、釉或搪瓷釉的化学成分；玻璃的表面处理；由玻璃、矿物或矿渣制成的纤维或细丝的表面处理；玻璃与玻璃或与其他材料的接合 C03C23/00 纤维或丝之外玻璃的其他表面处理	IPC分类号	C;0;3;C;2;3;/;0;0查看分类表>
申请人	西安工业大学	申请人地址	陕西省西安市金花北路4号变更专利地址、主体等相关变化，请及时变更，防止失效
权利人	西安工业大学	当前权利人	西安工业大学
发明人	刘为国;梁海锋;杭凌侠
代理机构	西安新思维专利商标事务所有限公司	代理人	黄秦芳

摘要

本发明涉及非接触法抛光技术领域，具体涉及一种等离子体加工装置。本发明的目的是要解决现有技术存在的抛光表面会引入外来元素，污染抛光表面，并且会因反应气体元素吸附在抛光表面，破坏抛光表面晶格完整性，易造成亚表面损伤的问题。为解决现有技术存在的问题，所提供的技术方案是：一种等离子体加工装置，包括工作室和其内部的电容耦合等离子体发生器，所述的电容耦合等离子体发生器包括进气口、射频接头和内套，所述的工作室为真空室，所述电容耦合等离子体发生器的内套外侧还依次设置有绝缘层和屏蔽层，内套、绝缘层和屏蔽层以过盈配合方式连接，在屏蔽层的外侧环设有环形磁铁，该环形磁铁通过直线移动机构联接于屏蔽层上。

序号	公开(公告)号	公开(公告)日	申请日	专利名称	申请人
该专利没有引用任何外部专利数据！

序号	公开(公告)号	公开(公告)日	申请日	专利名称	申请人
该专利没有被任何外部专利所引用！

我浏览过的专利

专利服务由北京酷爱智慧知识产权代理公司提供