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清洁装置及曝光机

发明专利有效专利
  • 申请号:
    CN202011392120.2
  • IPC分类号:B08B5/04;B08B6/00
  • 申请日期:
    2020-12-02
  • 申请人:
    深圳市华星光电半导体显示技术有限公司
著录项信息
专利名称清洁装置及曝光机
申请号CN202011392120.2申请日期2020-12-02
法律状态实质审查申报国家中国
公开/公告日2021-04-16公开/公告号CN112657946A
优先权暂无优先权号暂无
主分类号B08B5/04IPC分类号B;0;8;B;5;/;0;4;;;B;0;8;B;6;/;0;0查看分类表>
申请人深圳市华星光电半导体显示技术有限公司申请人地址
广东省深圳市光明新区公明街道塘明大道9-2号 变更 专利地址、主体等相关变化,请及时变更,防止失效
权利人深圳市华星光电半导体显示技术有限公司当前权利人深圳市华星光电半导体显示技术有限公司
发明人何鹏达;云家勇
代理机构深圳紫藤知识产权代理有限公司代理人裴磊磊
摘要
本申请实施例公开了一种清洁装置及曝光机,其中,该清洁装置包括:壳体,包括底板和侧壁;吸嘴,设置在所述底板上,所述吸嘴用于将承载台上的尘粒吸入其内;静电吸附件,固定在所述壳体上,所述静电吸附件包括第一吸附部和第二吸附部,所述第一吸附部设于所述吸嘴的第一侧,所述第二吸附部设于所述吸嘴的第二侧;导出管,与所述吸嘴连接,用于将所述吸嘴内的尘粒导出。本申请实施例的清洁装置及曝光机,可以提高清洁效果。

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