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光半导体装置

发明专利无效专利
  • 申请号:
    CN200910128112.4
  • IPC分类号:H01L31/075;H01L31/0216;H01L31/0256;H01L31/0232
  • 申请日期:
    2009-02-27
  • 申请人:
    三菱电机株式会社
著录项信息
专利名称光半导体装置
申请号CN200910128112.4申请日期2009-02-27
法律状态权利终止申报国家中国
公开/公告日2009-12-09公开/公告号CN101599511
优先权暂无优先权号暂无
主分类号H01L31/075
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IPC结构图谱:
IPC分类号H;0;1;L;3;1;/;0;7;5;;;H;0;1;L;3;1;/;0;2;1;6;;;H;0;1;L;3;1;/;0;2;5;6;;;H;0;1;L;3;1;/;0;2;3;2查看分类表>
申请人三菱电机株式会社申请人地址
日本东京都 变更 专利地址、主体等相关变化,请及时变更,防止失效
权利人三菱电机株式会社当前权利人三菱电机株式会社
发明人中路雅晴;石村荣太郎;柳生荣治
代理机构中国专利代理(香港)有限公司代理人何欣亭;王丹昕
摘要
本发明得到元件特性偏差少、量子效率高的光半导体装置。在n型InP衬底(10)(半导体衬底)上依次形成n型DBR层(12)(第一导电型的分布布拉格反射层)、n型InP应变缓冲层(14)(第一导电型的应变缓冲层)、低载流子浓度的i-InGaAs光吸收层(16)(光吸收层)以及p型InP窗层(18)(第二导电型的半导体层)。n型InP应变缓冲层(14)由与n型InP衬底(10)相同的材料构成。形成于n型DBR层(12)与i-InGaAs光吸收层(16)之间的层的总光学长度为入射光的波长λ的半波整数倍。

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