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用于显示装置基底加工的包含倍半硅氧烷聚合物和硅烷中至少一种的粘合剂层离层

发明专利无效专利

申请号：
CN201780028085.6
IPC分类号：C09J183/04;C08G77/04;H01L21/683
申请日期：
2017-05-10
申请人：
美国陶氏有机硅公司

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法律信息

引证文献

著录项信息

专利名称	用于显示装置基底加工的包含倍半硅氧烷聚合物和硅烷中至少一种的粘合剂层离层
申请号	CN201780028085.6	申请日期	2017-05-10
法律状态	撤回	申报国家	中国
公开/公告日	2018-12-21	公开/公告号	CN109072039A
优先权	暂无	优先权号	暂无
主分类号	C09J183/04 ? IPC结构图谱： C 化学；冶金 C0 化学 C09 染料；涂料；抛光剂；天然树脂；黏合剂；其他类目不包含的组合物；其他类目不包含的材料的应用 C09J 黏合剂；一般非机械方面的黏合方法；其他类目不包括的黏合方法；黏合剂材料的应用（外科黏合剂入A61L 24/00；在层状产品中用作黏合剂的基于未指明的有机高分子化合物的黏合剂入B32B；使用黏合剂或热熔黏合剂在织物或具有可变形表面的类似物料或物件上贴标签，分别入B65C 5/02，B65C 5/04；动物胶或明胶的制备入C09H ；带黏性的标签、签条或类似识别指示装置入G09F 3/10）〔5〕 C09J183/00 基于由只在主链中形成含硅的、有或没有硫、氮、氧或碳的键的反应得到的高分子化合物的黏合剂；基于此种聚合物衍生物的黏合剂〔5〕 C09J183/04 聚硅氧烷〔5〕	IPC分类号	C;0;9;J;1;8;3;/;0;4;;;C;0;8;G;7;7;/;0;4;;;H;0;1;L;2;1;/;6;8;3查看分类表>
申请人	美国陶氏有机硅公司	申请人地址	美国密歇根州变更专利地址、主体等相关变化，请及时变更，防止失效
权利人	美国陶氏有机硅公司	当前权利人	美国陶氏有机硅公司
发明人	G·金;刘俊英
代理机构	北京泛华伟业知识产权代理有限公司	代理人	徐舒

摘要

本发明所公开的各种实施方案涉及包含倍半硅氧烷聚合物和硅烷中的至少一种的粘合剂层离层，以及相关方面，诸如用于显示装置基底加工的方法。在各种实施方案中，是一种加工显示装置基底的方法。所述方法可包括利用粘合剂层离层将所述显示装置基底固定到载体基底。所述粘合剂层离层可包含前体粘合剂组合物的至少部分固化的产物。所述前体粘合剂组合物可包含硅烷和倍半硅氧烷聚合物中的至少一种。

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